Маска для жирной и проблемной кожи / BE.CLEAN ARMONY+ MASK МТ4784

Себорегулирующая кремовая очищающая маска предназначена для ухода за жирной, комбинированной кожей, склонной к образованию акне. Активные ингредиенты препарата синергично воздействуют на симптомокомплекс проблемной кожи, как в профессиональных уходах, так и в домашних условиях. Маска обеспечивает комплексное многофункциональное воздействие:  Нормализует деятельность сальных желез и регулирует выработку себума;  Уменьшает степень фолликулярного гиперкератоза и оптимизирует условия для свободного оттока избыточного сала из протоков сальных желез, что минимизирует риск появления новых высыпаний;  Корректирует акне, снижает выраженность и частоту возникновения открытых (черных точек) и закрытых комедонов, предотвращает образование постакне;  Восстанавливает гидролипидную мантию и микробиом кожи, увлажняет и питает кожу, поддерживая идеальный баланс между гидратацией и себореей;  Улучшает общее состояние кожи: сужает поры, устраняет жирный блеск, повышает упругость и тонус, освежает и матирует её. Максимальный эффект маски обеспечивается в сочетании с профессиональными процедурами, такими как чистка лица (мануальная, ультразвуковая, вакуумная), себорегулирующий массаж в технике Жаке, а также комплексный противовоспалительный уход с применением аппаратных методов коррекции.

АКТИВНЫЕ ИНГРЕДИЕНТЫ:
• Азелоглицин 1% • Запатентованный комплекс CYTOBIOL™ IRIS A² (экстракт ириса флорентийского 1%, сульфат цинка 0,1%, ретинил пальмитат (инкапсулированный) 0,1%) • Сок листьев алоэ барбадос¬ского 5% • Запатентованный комплекс RHAMNOSOFT HP (биосахаридная камедь-2) 0,1% • Бетаин 1% • Ниацинамид 5% • Ментол 0,1% ДОПОЛНИТЕЛЬНЫЕ ИНГРЕДИЕНТЫ: • Каолин 5% • Диоксид титана не более 10% • Триглицериды C10-18 (эмолент, текстурирующий агент, улучшает тактильные ощущения препарата) 5% • Пропандиол (увлажняющий компонент из кукурузы) 5% • Акрилат/С10-30-алкил акрилат кроссполимер (стабилизатор эмульсий, улучшает текстуру) 1% • Токоферол (Витамин Е) 0,1% • Лимонная кислота 0,1%